第八章半导体表面与MIS结构;重点:表面空间电荷层的性质 (表面电场效应) MIS结构的C-V特性(理想和非理性MOS电容)多子堆积状态平带状态多子耗尽状态少子反型状态硅–二

半导体表面与MIS结构
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在由n型半导体组成的MIS结构上加栅电压VG,分
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