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苏黎世SwissLitho公司与澳大利亚的EVGroup公司共同开发出一种能够制造纳米级光学组件的新型纳米压印光刻(NIL)技术。此次合作建立在先前由IBMResearch研发并获得欧盟

SwissLitho AG联合EVG开发用于生产3D光学结

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NanoFrazor 3D纳米高速直写技术研讨会于北航

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