光刻机制程【相关词_ 光刻机】

或者说分辨率能达到多少? 【中国国产的光刻机最小制程】中国目前国产的光刻机最小制程是90纳米。用90纳米的升级到65纳米不难。但是45纳米就是一个技术台阶了。45

半导体制程微缩 最后重要节点是7纳米|半导体|

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32nm制程用沉浸光刻设备客户需求量剧增

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掌握三星\/英特尔\/台积电制程技术命脉,艾司摩尔

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45nm远不是极限!神秘的处理器制程工艺 - xshd

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目前中国光刻机的厂商,以及制程分析

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什么是光刻机及分类?中国的光刻机发展水平如

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