光刻机的场大小_中国光刻机的新突破

摘要:本发明公开一种用于扫描光刻机的逐场调焦调平方法,采用多个测量光斑的调焦调平传感器系统在曝光面的各个曝光位置给出完整的垂向位置信息,从而消除了影响调焦调平

euv的光刻机结构和原理

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