中国9nm光刻机_中国5nm光刻机

集微网消息,SEMICON China 2017开幕日即3月14日,上海微电子装备(集团)股份有限公 9nm线宽,双线间距低至约 50nm的超分辨光刻。未来将这一工程化应用到光刻机上可以

中国首套90 nm高端光刻机通过验收_半导体\/P

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28-14纳米光刻机Ready,华虹六厂12英寸4万片

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光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光

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中国芯突围战打响,购入2台光刻机,起步就是14

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[大国战略]看一些人还跪着哭,也来聊聊国产机床

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挥刀进军10nm!台积电将引进EUV光刻机_CPU

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购入多台高端光刻机,中国芯突围战打响,14nm起

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EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步履维艰

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euv的光刻机结构和原理

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ASML垄断EUV光刻机:单价超1亿美元,中国再有

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国内光刻机领域突破9nm线宽光刻技术

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国内光刻机领域突破9nm线宽光刻技术

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ASML光刻机欠火候:三星\/台积电\/GF 7nm EUV

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中科院、上微自主研制成功新型光刻机 有望局

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中国刚拿下两光刻机,三星就进入3nm时代!网友

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