石墨烯化学气相沉积法_石墨烯气相沉积法

【专利摘要】本发明公开了一种化学气相沉积法制备石墨烯,其中,包括:步骤1.净化铜合金基底;步骤2.放置铜合金在化学气相沉积设备内;步骤3.去除铜合金表面的氧化膜;步骤4.制

石墨烯的化学气相沉积生长与过程工程学研究

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石墨烯化学气相沉积生长研究获进展

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CVD 气相沉积法制备石墨烯的技术方案_卡博莱

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