湿法蚀刻和干法蚀刻_湿法蚀刻

对于采用微米级和亚微米量级线宽的超大规模集成电路,刻蚀方法必须具有较高的各向异性特性,才能保证图形的精度,但湿法刻蚀不能满足这一要求。 干法刻蚀 70年代末研究出

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