为测量硅片上氧化膜的厚度,常用【相关词_ 硅片热氧化】

为了精确测量硅片(n0=3.4)上的氧化膜的厚度,常用化学的方法把薄膜的一部分腐蚀掉,使之成为尖劈形,称为“台阶”.已知氧化膜的折射率为n=1.5.用波长为λ=589.3nm的钠黄光

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